Application de composants optiques dans les machines de lithographie

Dans les machines de lithographie, le système optique est responsable de la focalisation et de la projection du faisceau lumineux émis par la source lumineuse sur la tranche de silicium pour atteindre l'exposition des modèles de circuits. Par conséquent, la conception et l'optimisation des composants optiques dans les systèmes de lithographie sont cruciales pour améliorer les performances des machines de lithographie.

Lentille de projection

La lentille de projection dans une machine de lithographie se compose généralement d'une série de lentilles, y compris des lentilles convexes, des lentilles concaves et des prismes. Sa fonction est de focaliser et de projeter le faisceau lumineux émis par la source lumineuse. Dans une machine de lithographie, la lentille de projection réduit le modèle de circuit sur le masque à une certaine échelle, puis le focalise sur la tranche revêtue de photorésist.

Système d'alignement optique

Le système d'alignement optique commeCube d'alignement optiqueDans une machine de lithographie est principalement utilisé pour assurer la précision d'alignement entre le photomasque et la tranche de silicium. Au cours du processus de lithographie, des erreurs dans l'équipement et les matériaux peuvent provoquer des écarts de position entre le photomasque et la tranche de silicium, conduisant à une distorsion ou une inexactitude dans les formes du motif. Par conséquent, le système d'alignement utilise des composants optiques précis tels que des miroirs de référence, des lentilles standard et des codeurs optiques pour mesurer et ajuster, assurant un alignement et une imagerie de haute précision pendant le processus de lithographie.

Lentilles optiques

Miroirs optiques: Les miroirs sont utilisés dans les machines de lithographie pour changer la direction du chemin de la lumière, guidant la lumière vers la position correcte. La précision de la surface et la stabilité deMiroirs optiquesUn impact significatif sur les performances de la machine de lithographie.

Séparateurs de faisceau: séparateurs de faisceau de la têteUsine de séparateur de faisceauSont des composants optiques qui divisent un seul faisceau lumineux en plusieurs faisceaux. Ils sont utilisés dans les machines de lithographie pour générer plusieurs faisceaux parallèles, permettant une exposition simultanée de plusieurs puces.

Grilles: Les grilles sont des composants optiques qui divisent la lumière en plusieurs sous-faisceaux et contrôlent leur phase et leur amplitude. Ils sont utilisés dans les machines de lithographie pour créer des motifs et des structures complexes.

Filtres: Filtres fabriqués par leEntreprise de filtres optiquesSont utilisés pour filtrer les longueurs d'onde indésirables de la lumière, améliorant la précision et la qualité de la lithographie.